图书介绍

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材料评价的高分辨电子显微方法
  • （日）进藤大辅，平贺贤二等合著；刘安生译 著
  • 出版社： 北京：冶金工业出版社
  • ISBN：7502421114
  • 出版时间：1998
  • 标注页数：186页
  • 文件大小：49MB
  • 文件页数：199页
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图书目录

目录1

第1章 高分辨电子显微方法的基础1

1.1 透射电子显微镜的原理1

1.2 电子散射和傅里叶变换3

1.3 高分辨电子显微像的形成4

1.3.1 薄膜试样的高分辨电子显微像4

1.3.2 电子显微镜的分辨率8

1.3.3 厚试样的高分辨电子显微像10

1.4 高分辨电子显微像的计算机模拟11

1.4.1 程序的构成和输入的参数12

1.4.2 在考虑晶格缺陷和吸收时的计算机模拟13

1.4.3 程序的检查14

参考文献16

第2章 高分辨电子显微方法的实践17

2.1 高分辨电子显微像的种类17

2.1.1 晶格条纹17

3．合金、金属间化合物18

Fe73.5CuNb3Si13.5B918

2.1.2 一维结构像19

2.1.3 二维晶格像20

2.1.4 二维结构像22

本书刊载的（各类材料的）高分辨电子显微像一览表（页码）23

本表采用各种材料的习惯表示方法来表示材料的组成。另外，当不能确切表示组成时，用短线将构成元素连接起来表示。1．陶瓷SiC23

2.1.5 特殊的像24

Si3N425

2.2.1 像观察前的注意事项28

2.2 高分辨电子显微镜观察28

2.2.2 像观察时的注意事项29

2.2.3 拍摄像的选择32

2.2.4 像解释时的注意事项34

2.2.5 高分辨电子显微镜观察的练习35

参考文献36

第3章 高分辨电子显微方法的应用37

3.1 晶格缺陷、表面和界面的高分辨电子显微像37

3.1.1 位错37

专栏一览表（页码）39

金属间化合物——耐热材料39

CoTi44

3.1.2 晶界和相界面46

2．半导体48

Si 40,41,42,46,48

Fe3Al49

CVD-Si3N450

HIP-Si3N4-SiC50

CVD-SiC51

倾斜晶界和∑值53

Ni3(Al,Ti) 43,54

Bi-Sr-Ca-Cu-O 19,55

Sm-Co 57,58

Al-Si(wSi＝20％)-Ni(wNi＝1％)60

CVDSi3N4-TiN61

3.1.3 表面62

TlBa2CaCu2O765

TlBa2Ca3Cu4O11 8,66

Pb2Sr2Y0.5Ca0.5Cu3O866

a-Fe2O367

3.1.4 其他结构缺陷68

EMT型沸石69

LTL型沸石69

Nb-O-F71

Nb2O572

3.2.1 陶瓷73

3.2 各种物质的高分辨电子显微像73

WO3-1/8Ta2O574

WO3-1/4Ta2O5 75,76

3.2.2 超导氧化物77

Si3N4-SiC 78,79

ZrO280

ZrO2-Al2O3（φAl2o3＝24％）82

Al2O3-ZrO2（φZro2＝24％） 63,81,83

4．无机化合物85

YBa2Cu3O7 45,65,85

3.2.3 有序合金87

超导氧化物最初观察的情况87

表示合金晶体结构的符号88

Tl2Ba2Ca3Cu4O1289

Tl2Ba2CaCu2O889

Sm2CuO491

Au-Cd(xCd＝24.0％)94

Au-Mn(xMn＝22.6％)95

Cu-Au(xAu＝41.0％)98

Cu-Au(xAu＝50.0％)99

Au-Mn(xMn＝20.7％)101

3.2.4 准晶102

Ni-Mo(xMo＝20.1％)103

Au-Cd(xCd＝30.5％)105

Au-Cd(xCd＝32.0％) 104,105

Al80Mn20110

Al70Pd20Mn10113

Al74Mn20Si6 111,113

Al-Li-Cu114

Al72Pd18Cr10114

Al3Mn116

Al70Pd13Mn17 115,116

参考文献120

4.1.1 高分辨电子显微像的输入和输出123

4.1 图像处理123

第4章 高分辨电子显微方法的周边技术123

4.1.2 高分辨电子显微像图像处理的实践125

Ga0.5In0.5P 127,128

4.2 定量解析133

4.2.1 新记录系统的原理133

4.2.2 新的图像记录系统的特性134

4.2.3 用残差指数解析高分辨电子显微像137

Tl2Ba2CuO6 39,86,137

4.3 电子衍射方法141

4.3.1 电子衍射方法的基础141

4.3.2 电子衍射方法的实际操作143

4.3.3 各种结构及其电子衍射花样的特征145

菊池花样147

4.4.1 弱束方法的原理和特点149

4.4 弱束方法149

4.4.2 弱束像的观察程序150

4.5 电子显微镜性能的评价151

4.5.1 电子显微镜基本参数的评价151

4.5.2 电子显微镜分辨率的评价156

4.6 试样制备方法157

4.6.2 电解减薄方法158

4.6.1 粉碎方法158

4.6.4 超薄切片方法159

4.6.3 化学减薄方法159

4.6.5 离子减薄方法160

4.6.6 聚焦离子束方法161

4.6.7 真空蒸涂方法162

参考文献163

附录165

附录1 物理常数、换算系数和电子波长等165

附录2 晶体几何学关系166

附录3 材料的典型结构和电子衍射花样167

附录4 傅里叶变换的性质176

附录5 波函数相位的处理179

附录6 关于部分相干性180

参考文献180

索引181

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