图书介绍

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华年日拾 梁骏吾院士80华诞记怀
  • 中国科学院半导体研究所编 著
  • 出版社: 北京:科学出版社
  • ISBN:9787030384447
  • 出版时间:2013
  • 标注页数:335页
  • 文件大小:59MB
  • 文件页数:372页
  • 主题词:梁骏吾-生平事迹

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图书目录

学术论文3

Investigation of Heterostructure Defects for LPE Ga1-χA1…As/GaAs3

Investigation of N-doped FZ Si Crystals12

The Interaction Between Impurities and Defects in Semiconductors15

Behaviors of Dislocations During Sl’s Growth and Crystal Quality Assessment19

Thermodynamic and Fluid Dynamic Analyses of GaAs Movpe Process25

Photoluminescence Spectrum Study of the GaAs/Si Epilayer Grown by using a Thin Amorphous Si Film as Buffer Layer32

Dissociated Screw Dislocation Which Can Relieve Strain Energy in the Epitaxial Layer of GeSi on Si (001)37

Hrtem Study of Dislocations in GeSi/Si Heterostructures Grown by VPE43

Kinetics and Transport Model for the Chemical Vapor Epitaxy of GχSi1-χ47

The Dependence of GeχSi1-χEpitaxial Growth on GeH4 Flow Using Chemical Vapour Deposition57

Physical Properties and Growth of SiC62

Study on Photoluminescence Spectra of SiC69

Raman Study on Residual Strains in Thin 3C-SiC Epitaxial Layers Grown on Si (001)76

Investigation of{111}A and{111}B Planes of c-GaN Epilayers Grown on GaAs(001)by MOCVD83

Microtwins and Twin Inclusions in the 3C-SiC Epilayers grown on Si (001)by APCVD89

Determination of Structure and Polarity of SiC Single Crystal by X-Ray Diffraction Technique95

Is Thin-Film Solar Cell Technology Promising?101

Optical and Electrical Properties of GaN:Mg Grown by MOCVD121

Defect Cluster-Induced X-Ray Diffuse Scattering in GaN Films Grown by MOCVD127

Growth of AlGaN Epitaxial Film with High Al Content by Metalorganic Chemical VapourDeposition133

Temperature Distribution in Ridge Structure InGaN Laser Diodes and Its Influence on Device Characteristics140

Abatement of Waste Gases and Water During the Processes of Semiconductor Fabrication148

Control of Arsenic Pollution from Waste Gases During Fabrication of Semiconductor156

О летучести окиси бора в гедороде при иаличии водянoro пара160

О растворимостн кислорода в жидком кремнии164

直拉硅单晶碳沾污的研究168

LPE Ga1-χA1χAs/GaAs界面缺陷观察176

Si-C相图的研究及碳对硅单晶质量的影响182

掺氮区熔硅单晶深能级的研究190

Ge在GaAs液相外延中的行为193

杂质在硅和砷化镓中行为199

两性杂质锗在LPE GaAs中分凝系数和占位比的计算210

半导体(目录)218

水平式矩形硅外延系统的计算机模拟220

低压MOCVD生长的InGaAs/InP量子阱的光致发光谱线线宽及量子尺寸效应的测量分析227

GaAs/Si外延层X射线双晶衍射摇摆曲线的动力学模拟和位错密度的测量234

SIPOS膜的结构组成240

半导体材料与器件生产工艺尾气中砷、磷、硫的治理及检测247

GeSi CVD系统的流体力学和表面反应动力学模型254

MOVPE生长Ca(CH3)3—AsH3—H2体系中砷的形态转化及砷的治理261

用固相外延方法制备Si1-χ-Ge.χ Cγ三元材料266

兴建年产一千吨电子级多晶硅工厂的思考272

电子级多晶硅的生产工艺276

中国信息产业领域相关重点基础材料科技发展战略研究284

中国硅材料工业的前景与挑战292

半导体硅片生产形势的分析295

光伏产业面临多晶硅瓶颈及对策300

“十五”期间中国半导体硅材料发展战略思路和建议307

薄膜光伏电池中的材料问题310

降低超大规模集成电路用高纯水中总有机碳的能量传递光化学模型312

附录321

附录一 梁骏吾活动年表321

附录二 梁骏吾获奖情况325

附录三 所获得的专利目录327

附录四 学术报告目录328

附录五 工程院院士建议330

后记335

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