图书介绍
衬底基片超精密加工技术PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 周海编著 著
- 出版社： 北京：科学出版社
- ISBN：9787030392817
- 出版时间：2014
- 标注页数：175页
- 文件大小：87MB
- 文件页数：185页
- 主题词：发光二极管－生产工艺
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图书目录
第1章 LED与衬底基片1
1.1 LED概述1
1.1.1 LED的发展历程1
1.1.2 LED的原理和特点1
1.1.3 LED的特点2
1.2 LED应用3
1.2.1 普通照明领域3
1.2.2 背光照明领域3
1.2.3 道路交通领域4
1.2.4 其他领域4
1.3 LED制备工艺5
1.4 LED对衬底基片的要求6
1.5 衬底材料的性能7
1.5.1 蓝宝石7
1.5.2 碳化硅9
1.5.3 氧化锌11
1.5.4 硅13
1.5.5 常见衬底基片材料性质的对比15
第2章 蓝宝石晶体的生长技术16
2.1 提拉法16
2.1.1 提拉法简介16
2.1.2 提拉法晶体生长装置17
2.1.3 提拉法晶体生长过程18
2.1.4 提拉法晶体生长工艺参数21
2.2 泡生法23
2.2.1 泡生法简介23
2.2.2 泡生法晶体生长装置24
2.2.3 泡生法晶体生长工艺过程25
2.2.4 泡生法生长工艺参数26
2.3 温梯法27
2.3.1 温度梯度法简介27
2.3.2 温度梯度法晶体生长的特点27
2.3.3 温度梯度法蓝宝石晶体生长工艺28
2.4 焰熔法29
第3章 蓝宝石晶体的切片技术30
3.1 晶体切片的目的和工艺30
3.1.1 晶体切片的目的30
3.1.2 蓝宝石晶体的切片工艺流程31
3.2 晶体的定向技术33
3.2.1 蓝宝石晶向33
3.2.2 晶体定向34
3.3 晶体的切片技术35
第4章 蓝宝石衬底基片的倒角技术45
4.1 衬底基片对倒角的要求45
4.2 衬底基片的倒角原理和设备46
4.3 衬底基片的倒角工艺参数49
第5章 蓝宝石衬底基片的研磨技术51
5.1 衬底基片对研磨的要求51
5.2 衬底基片的研磨设备52
5.2.1 双面研磨设备53
5.2.2 单面研磨设备59
5.3 衬底基片的研磨工艺69
5.3.1 研磨工艺流程69
5.3.2 研磨中各工艺参数对研磨结果的影响75
5.3.3 研磨前后衬底基片的对比79
5.4 研磨的运动轨迹分析81
5.4.1 研磨轨迹的介绍82
5.4.2 双面研磨运动轨迹分析82
5.4.3 单面研磨运动轨迹分析90
5.5 研磨液的配制93
5.5.1 研磨液的作用93
5.5.2 双面研磨中研磨液的组成93
5.5.3 单面研磨中研磨液的组成94
第6章 蓝宝石衬底基片的抛光技术97
6.1 衬底基片的抛光目的97
6.2 衬底基片的抛光方法97
6.2.1 以机械作用为主的抛光方法98
6.2.2 以化学作用为主的抛光方法99
6.2.3 化学与机械作用相互作用的抛光方法100
6.3 化学机械抛光原理101
6.3.1 化学机械抛光原理101
6.3.2 化学机械抛光机理102
6.4 化学机械抛光设备103
6.4.1 化学机械抛光设备的工作原理103
6.4.2 化学机械抛光设备的组成结构105
6.4.3 化学机械抛光设备的关键零部件分析106
6.4.4 化学机械抛光设备的操作要领111
6.5 化学机械抛光工艺112
6.5.1 抛光工艺流程112
6.5.2 抛光工艺参数对抛光效果的影响114
6.5.3 抛光后衬底基片表面形貌118
6.6 抛光液的配制121
6.6.1 磨料121
6.6.2 pH调节剂121
6.6.3 氧化剂122
6.6.4 分散剂122
6.6.5 表面活性剂122
6.6.6 抛光液的配制123
6.7 抛光垫的种类和选择124
6.7.1 抛光垫的作用124
6.7.2 抛光垫的种类124
6.7.3 抛光垫的性能126
6.7.4 抛光垫的选择127
6.7.5 抛光垫的修整127
第7章 蓝宝石衬底基片的净化技术130
7.1 衬底基片的净化目的130
7.2 衬底基片表面杂质的来源和分类130
7.2.1 衬底基片表面杂质的来源130
7.2.2 衬底基片表面杂质的分类131
7.3 衬底基片净化机理132
7.3.1 蓝宝石衬底基片的表面洁净度要求132
7.3.2 吸附理论133
7.3.3 净化原理134
7.4 衬底基片净化工艺134
7.4.1 物理方法净化134
7.4.2 化学方法净化135
7.4.3 蓝宝石衬底基片净化工艺137
7.5 衬底基片净化设备141
7.5.1 超声净化原理141
7.5.2 超声波清洗机141
7.6 衬底基片净化环境146
第8章 衬底基片的质量检测技术149
8.1 衬底基片的质量指标149
8.1.1 晶体生长质量检测指标149
8.1.2 几何参数类质量检测指标150
8.1.3 表面缺陷类质量检测指标152
8.2 衬底基片的检测方法与检测设备153
8.2.1 检测方法153
8.2.2 检测设备154
8.3 典型衬底基片技术参数与检测结果156
8.3.1 典型的衬底基片技术参数156
8.3.2 典型的衬底基片检测结果157
附录160
参考文献167