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半导体器件新工艺 译文集
  • 浙江大学五·七电机厂,《新技术译丛》编译组编译 著
  • 出版社: 浙江大学五·七电机厂;《新技术译丛》编译组
  • ISBN:
  • 出版时间:1971
  • 标注页数:214页
  • 文件大小:15MB
  • 文件页数:221页
  • 主题词:

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图书目录

目录1

硅的化学—机械抛光1

有色掩模11

光致抗蚀剂20

投影掩蔽法34

用扫描电子束进行图形曝光48

离子注入技术59

离子注入法在硅元件生产上的应用88

高频溅射技术97

掺杂氧化硅热扩散技术及其应用129

由硅烷低温外延生长单晶硅139

硅外延工艺的进展142

铝丝超声键合的整定与评价155

半导体器件的塑料封装与低压递模塑165

梁式引线工艺181

在硅片上热生长“无钠”二氧化硅层190

晶向对硅半导体工艺的影响196

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