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第一章 引言和历史1

第二章 无机玻璃和有机玻璃的成分、结构和性质7

2.1 形成玻璃的无机材料7

2.1.1 微晶理论9

2.1.2 无规网络理论9

2.1.3 相分离，脱玻作用10

2.1.4 形成玻璃的有机材料12

2.1.5 聚合物的结晶和无定形行为13

2.2 无机玻璃和有机玻璃的热行为13

2.4 无机玻璃和有机玻璃的化学性质16

2.3 无机玻璃和有机玻璃的力学性质16

2.5 电性质18

2.6 光学性质20

2.7 透紫外和红外的材料23

2.8 光色玻璃26

2.9 玻璃陶瓷30

第三章 表面性质35

3.1 表面的特性35

3.1.1 表面结构36

3.1.2 表面的化学成分37

3.1.3 表面能39

3.1.4 表面形貌41

3.1.5 固体-气体及固体-固体间的相互作用42

3.2 玻璃表面的制备46

3.2.1 拉伸和浇铸46

3.2.2 模压和造型47

3.2.3 研磨和抛光48

第四章 衬底表面的清洁处理53

4.1 清洗方法54

4.1.1 用溶剂清洗54

4.1.1.1 擦洗和浸冼55

4.1.1.2 蒸气脱脂56

4.1.1.3 起声清洗56

4.1.1.4 喷射清洗57

4.1.2 加热和辐照清洗58

4.1.3 剥去喷漆涂层清洗59

4.1.4 放电清洗59

4.1.5 清洗程序61

4.1.6 有机玻璃的清洗62

4.2 控制表面清洁程度的方法62

4.3 清洁表面的保持64

第五章 玻璃和薄膜66

5.1 玻璃和薄膜之间的关系66

5.2 衬底与膜之间的附着力68

5.2.1 附着力的测量方法70

5.2.1.1 力学方法71

5.2.1.2 非力学方法74

5.2.2 粘附的原因76

5.2.2.1 界面层76

5.2.2.2 键合类型78

5.2.3 影响附着力的参量80

5.2.3.1 涂层和衬底材料80

5.2.3.2 衬底制备80

5.2.3.3 镀膜方法的影响81

5.2.3.4 老化81

5.2.4.2 直接拉离方法83

5.2.4.3 划痕方法83

5.2.4.1 透明胶带试验83

5.2.5 对附着力的最后说明92

第六章 膜的制备方法93

6.1 脱除方法93

6.1.1 化学工艺93

6.1.1.1 表面浸析93

6.1.2 物理工艺94

6.1.2.1 高能粒子轰击94

6.2 附加方法95

6.2.1 膜形成的化学工艺96

6.2.1.1 从溶液中淀积金属膜96

6.2.1.2.1.1 成膜，结构，光学和力学性质98

6.2.1.2 从溶液中淀积氧化物膜98

6.2.1.2.1.2 镀膜过程112

6.2.1.2.2 旋转镀膜117

6.2.1.3 从溶液中淀积有机膜118

6.2.1.4 低温下化学蒸气淀积120

6.2.1.4.1 大气压CVD和低压CVD123

6.2.1.4.1.1 喷镀123

6.2.1.4.1.2 大气压CVD128

6.2.1.4.1.2.1 化合物膜130

6.2.1.4.1.2.2 金属膜133

6.2.1.4.1.3 低压CVD137

6.2.1.4.2.1 等离子体活化CVD138

6.2.1.4.2 等离子体活化CVD和光子活化CVD138

6.2.1.4.2.2 光子活化CVD142

6.2.1.5 物理蒸气淀积143

6.2.1.5.1 真空技术145

6.2.1.5.1.1 真空泵148

6.2.1.5.1.1.1 机械排气泵148

6.2.1.5.1.1.2 扩散泵152

6.2.1.5.1.1.3 分子泵155

6.2.1.5.1.1.4 低温泵160

6.2.1.5.1.2 高真空工艺系统162

6.2.1.5.2 在高真空中通过蒸发和凝结淀积膜170

6.2.1.5.2.1 蒸发173

6.2.1.5.2.2 蒸气原子的能量、速度和方向分布及薄膜厚度的均匀性177

6.2.1.5.2.3 能量和质量的效率191

6.2.1.5.2.4 蒸发技术194

6.2.1.5.2.5 气化物质粒子越过还原气象传输201

6.2.1.5.2.6 凝结和薄膜的形成202

6.2.1.5.2.7 蒸发材料205

6.2.1.5.2.8 蒸发设备210

6.2.1.5.3 用阴极溅射法淀积薄膜214

6.2.1.5.3.1 总的考虑215

6.2.1.5.3.2 溅射阈值和溅射产额222

6.2.1.5.3.3 其他粒子的溅出和射线的发射227

6.2.1.5.3.5 表面膜中的蚀变、扩散和离解228

6.2.1.5.3.4 离子注入228

6.2.1.5.3.6 溅射率229

6.2.1.5.3.7 粒子的速度和能量230

6.2.1.5.3.8 角度分布231

6.2.1.5.3.9 溅射材料的组成231

6.2.1.5.3.10 气体放电232

6.2.1.5.3.11 溅射中厚度均匀性和质量效率244

6.2.1.5.3.12 溅射材料247

6.2.1.5.3.13 溅射设备248

6.2.1.5.3.14 蒸发与溅射的比较250

6.2.1.5.4 用离子镀法淀积膜250

6.2.1.5.4.1 离子镀的特性252

6.2.1.5.4.2 离子镀的优点254

6.2.1.5.4.3 离子镀的应用257

6.2.1.5.5 反应淀积过程261

6.2.1.5.5.1 一般考虑261

6.2.1.5.5.2 反应蒸发262

6.2.1.5.5.3 活化的反应蒸发266

6.2.1.5.5.4 反应溅射272

6.2.1.5.5.5 反应离子镀273

6.2.1.5.6 等离子体聚合作用275

第七章 膜的厚度281

7.1 一般考虑281

7.2.1 干涉方法284

7.2 适用于所有类型薄膜的方法284

7.2.2 探针方法285

7.3 适用于PVD薄膜的方法287

7.3.1 光反射和透射的测量287

7.3.2 石英晶体振荡微量秤290

7.3.3 采用质谱仪测量蒸气密度298

7.4 监控技术的趋向299

第八章 薄膜的性质302

8.1 结构302

8.2 微结构313

8.3.1 表面分析324

8.3 化学成分324

8.3.2 深度剖面327

8.4 力学性质333

8.4.1 应力334

8.4.2 硬度和磨损345

8.4.3 密度348

8.5 化学稳定性和环境的稳定性350

8.6 薄膜的光学性质351

8.7 电光材料及其性质364

第九章 玻璃镀膜的应用377

9.1 概论377

9.2 光学膜系的计算381

9.3 减反射镀层385

9.3.1 单层减反射镀层385

9.3.2 双层减反射镀层388

9.3.3 多层减反射镀层390

9.3.4 在倾斜入射下的减反射镀层393

9.3.5 非均匀减反射镀层394

9.3.6 减反射镀层的应用395

9.4 背面镜、表面镜和分束镜396

9.4.1 背面镜396

9.4.2 金属膜表面镜397

9.4.3 分束镜402

9.4.4 中性密度滤光片406

9.4.5 介质镜408

9.4.6 冷光镜和透热镜410

9.4.7 激光镀层413

9.4.8 人造宝石416

9.5 用滤光片分光417

9.5.1 低通和高通边缘滤光片418

9.5.2 带通干涉滤光片423

9.5.2.1 窄带滤光片423

9.5.2.2 宽带滤光片427

9.6.1 护目镀层428

9.6 吸收镀层428

9.6.2 光掩模429

9.6.3 刻度，标线片，孔径光阑431

9.6.4 相位片431

9.7 透明导电镀层432

9.8 节能镀层435

9.9 可焊接镀层436

9.10 集成光学437

9.10.1 集成光学部件438

9.1O.2 现状和趋向443

9.11 科学上的应用446

参考文献450